继俄罗斯之后国产EUV光刻机传来消息ASML这次真该着急了！

作者：华体育会全站官网登录入口  时间:2024-04-06 16:10:26

  其中，包括欧盟、俄罗斯在内的国家，开始全力发展半导体工业，计划在部分芯片产品的供应问题上，实现自给自足。比如，欧盟就公布了价值430亿欧元的《欧洲处理器发展声明》，计划用公共和民间投资的资金，发展属于自身个人的芯片产业。

  其中，有110亿欧元将用于研究创新，以研发最先进的芯片；剩余部分将投入到欧盟现有的项目中，芯片的生产制造是重点。

  俄罗斯方面，则从今年三月份之后，先后宣布了3000亿卢布扶持ICT产业高质量发展，自研无掩模X射线光刻机；重启当地晶圆厂Mikron，购入二手设备来生产芯片，预计在今年年底实现90nm芯片生产等消息。

  从消息面来看，俄罗斯已然是下定了决心，发展属于自身个人的半导体技术，弥补国内芯片市场的空缺，降低对于进口芯片产品的依赖。

  台积电等晶圆代工机构，无法对外提供稳定的芯片代工服务。自然导致慢慢的变多的国家，发展属于自身个人的芯片技术。

  继俄罗斯研发X射线光刻机之后，国产EUV光刻机也传来了新的消息。由中科院上海光机所旗下的团队，在防控期间接连取得多项技术突破。

  其中，包括通过大口径离轴反射曝光系统，来完成米级脉冲压缩光栅的制造；取得核心光学器件N41 钕玻璃用包边玻璃的研制；同时，还在大尺寸 DKDP 长籽晶快速生长技术上，取得了重大突破。

  这些技术突破，都是有关于光刻机光学系统搭建的技术难题。可以说，上海光机所突破的技术，就是在为先进光刻机的国产化夯实理论基础。

  此外，国产光刻机产业巨头国望光学，也对外传出了招标信息。公开对外招标两台五轴联动立式加工中心。这种设备的最大的作用，就是

  据国望光学公开的资料显示：该招标计划，是为了建设一座曝光系统的研发基地。而曝光系统，恰恰是光刻机产品中最为关键的一个环节。

  首先，台积电、苹果慢慢的开始基于先进封装工艺，来提升芯片产品的性能。这也就从另一方面代表着，未来的先进制程芯片，将大幅度减少对EUV光刻机产品的依赖。

  其次，俄罗斯在研发性能比肩EUV光刻机的无掩模X射线光刻机，虽然，该光刻机没办法做到芯片的大规模量产，但是，也能够在传统光刻机制程精度不够的情况下，产出高性能的芯片产品。从而避免高端芯片，被EUV光刻机给“卡脖子”。

  最后，国内开始发展与EUV光刻机有关的技术，就整个芯片产业来看。国产EUV光刻机同规格的产品一旦问世，可能就会用更低的价格来抢占市场。

  届时，ASML所持有的EUV光刻机设备，就再也无法卖出现如今的高价。所以，对于ASML而言，眼下争取EUV光刻机的自由出货，加快NA EUV光刻机的研发速度。反而要更加有利于长期保持其行业内的领先地位。

  全球半导体产业链牵一发而动全身，看似只是规则上出现了一些转变。实际上已造成了全球市场的诸多变化，各国开始发展取代EUV光刻机的产品和技术。实际上已经是一个明显的讯号，ASML再不谋求新的改变，势必会被其竞争对手逐步取代。